WEKO3
アイテム
トピックス 高度情報化社会の発展を支え続けるフォトリソグラフィの進化
http://hdl.handle.net/10112/7512
http://hdl.handle.net/10112/7512db3173fd-f519-4d4c-a393-e6e0991fd7b0
名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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Item type | 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1) | |||||
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公開日 | 2013-02-01 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | トピックス 高度情報化社会の発展を支え続けるフォトリソグラフィの進化 | |||||
言語 | ||||||
言語 | jpn | |||||
資源タイプ | ||||||
資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||
その他のタイトル | ||||||
その他のタイトル | Evolution of photo-lithography system for development of highly information society | |||||
著者 |
工藤, 宏人
× 工藤, 宏人 |
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著者別名 | ||||||
識別子Scheme | WEKO | |||||
識別子 | 27864 | |||||
姓名 | Kudo, Hiroto | |||||
概要 | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | 半導体集積回路(IC)は、最近20年の間に驚異的な進化を遂げ、高度情報化社会を牽引してきた。IT産業という言葉を定着させ、その発展を支えたのはICの進化のおかげであると断言しても過言ではない。ICを進化させたのは、フォトリソグラフィの発展により、レジストパターン幅を縮小させることに成功してきたからである。そのレジストパターンの発展も、いよいよ限界に近づき、分子レベルでのコントロールに迫ろうとしている。 | |||||
書誌情報 |
理工学と技術 : 関西大学理工学会誌 = Engineering & technology 巻 19, p. 75-80, 発行日 2012-11-16 |
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ISSN | ||||||
収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
収録物識別子 | 18830021 | |||||
書誌レコードID | ||||||
収録物識別子タイプ | NCID | |||||
収録物識別子 | AA12311681 | |||||
著者版フラグ | ||||||
出版タイプ | VoR | |||||
出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||
出版者 | ||||||
出版者 | 関西大学理工学会 |