WEKO3
アイテム
Synthesis and Property of Tellurium-Containing Polymer for Extreme Ultraviolet Resist Material
http://hdl.handle.net/10112/16257
http://hdl.handle.net/10112/16257131dff15-d7ff-42d7-bb26-f552bf2952be
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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KU-1100-20170626-00.pdf (179.0 kB)
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| Item type | 学術雑誌論文 / Journal Article(1) | |||||
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| 公開日 | 2018-08-31 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Synthesis and Property of Tellurium-Containing Polymer for Extreme Ultraviolet Resist Material | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | eng | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
| 資源タイプ | journal article | |||||
| 著者 |
Fukunaga, Mari
× Fukunaga, Mari× Kudo, Hiroto× Yamamoto, Hiroki× Kozawa, Takahiro |
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| 著者別名 | ||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||
| 識別子 | 26863 | |||||
| 姓名 | 福永, 真理 | |||||
| 著者別名 | ||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||
| 識別子 | 26864 | |||||
| 姓名 | 工藤, 宏人 | |||||
| 概要 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | Synthesis, physical properties, and resist properties of tellurium containing polymer with pendant adamantyl ester groups poly(Re-co-Te)-AD were examined, relevant to the application of resist material for extreme ultraviolet laser photolithography (EUVL) system. A tellurium containing polymer with pendant hydroxyl groups poly(Re-co-Te) was synthesized by the condensation reaction of resorcinol (Re) and tellurium tetrachloride (TeCl4), followed by the condensation reaction with adamantyl bromo acetate to give a corresponding polymer poly(Re-co-Te)-AD. Their physical properties (solubility, film-forming ability, thermal stability) and resist properties (thickness loss property after soaking in 2.38 wt% TMAH aq. solution, out-gassing on EUV exposure tool, and resist sensitivity under EUV exposure tool) were also examined. | |||||
| 書誌情報 |
Journal of Photopolymer Science and Technology 巻 30, 号 1, p. 103-107, 発行日 2017-06-26 |
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| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
| 収録物識別子 | 13496336 | |||||
| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
| 収録物識別子 | 09149244 | |||||
| DOI | ||||||
| 関連タイプ | isVersionOf | |||||
| 識別子タイプ | DOI | |||||
| 関連識別子 | 10.2494/photopolymer.30.103 | |||||
| 権利 | ||||||
| 権利情報 | (C) 2017 The Society of Photopolymer Science and Technology (SPST) | |||||
| 権利 | ||||||
| 権利情報 | (C)フォトポリマー学会; このデータはフォトポリマー学会からの許諾を得て公開しています。 | |||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 出版タイプ | AM | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_ab4af688f83e57aa | |||||
| 出版者 | ||||||
| 出版者 | The Society of Photopolymer Science and Technology | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | hyperbranched polyacetal | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | electron beam | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | extreme ultraviolet | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | resist | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | 関西大学 | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Kansai University | |||||
| 出版者（他言語） | ||||||
| 値 | フォトポリマー学会 | |||||
