WEKO3
アイテム
Synthesis and Resist Properties of Hyperbranched Polyacetals
http://hdl.handle.net/10112/11219
http://hdl.handle.net/10112/11219b0171db9-b106-4eb9-a428-984d7ce4b539
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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KU-1100-20150624-00.pdf (955.5 kB)
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| Item type | 学術雑誌論文 / Journal Article(1) | |||||
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| 公開日 | 2017-06-12 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Synthesis and Resist Properties of Hyperbranched Polyacetals | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | eng | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
| 資源タイプ | journal article | |||||
| 著者 |
Kudo, Hiroto
× Kudo, Hiroto× Matsubara, Shuhei× Yamamoto, Hiroki× Kozawa, Takahiro |
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| 著者別名 | ||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||
| 識別子 | 26851 | |||||
| 姓名 | 工藤, 宏人 | |||||
| 著者別名 | ||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||
| 識別子 | 26852 | |||||
| 姓名 | 松原, 周平 | |||||
| 概要 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | The synthesized noria-AD offered 40 nm resolution resist pattern with LWR = 9.5 nm in the case of EB exposure tool and a clear 26 nm resolution pattern with LWR = 8.3 nm by means of EUV exposure tool. These results indicate that the present poly(THPE-co-BVOC) would have higher potential to offer higher resolution pattern using EUV lithography system. | |||||
| 書誌情報 |
Journal of Photopolymer Science and Technology 巻 28, 号 1, p. 125-129, 発行日 2015-06-24 |
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| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
| 収録物識別子 | 09149244 | |||||
| 書誌レコードID | ||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||
| 収録物識別子 | AA11576862 | |||||
| DOI | ||||||
| 関連タイプ | isIdenticalTo | |||||
| 識別子タイプ | DOI | |||||
| 関連識別子 | 10.2494/photopolymer.28.125 | |||||
| 権利 | ||||||
| 権利情報 | (C) 2015 SPST | |||||
| 権利 | ||||||
| 権利情報 | 本文はフォトポリマー学会の許諾を得て作成しています。 | |||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||
| 出版者 | ||||||
| 出版者 | The Society of Photopolymer Science and Technology | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | hyperbranched polyacetal | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | electron beam | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | extreme ultraviolet | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | resist | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | 関西大学 | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Kansai University | |||||
| 出版者（他言語） | ||||||
| 値 | フォトポリマー学会 | |||||
