WEKO3
アイテム
中低温動作マイクロSOFCのためのGd添加CeO2の堆積と微細加工
http://hdl.handle.net/10112/3226
http://hdl.handle.net/10112/322641b3abe8-504a-4299-80e7-503ed270263b
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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KU-1100RKG-20101110-08.pdf (1.2 MB)
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| Item type | 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1) | |||||
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| 公開日 | 2011-03-04 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | 中低温動作マイクロSOFCのためのGd添加CeO2の堆積と微細加工 | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
| 資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||
| その他のタイトル | ||||||
| その他のタイトル | Deposition and Microfabrication of Gd-doped CeO2 for Micro SOFC Operating at Low Temperature | |||||
| 著者 |
高橋, 智一
× 高橋, 智一 |
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| 著者別名 | ||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||
| 識別子 | 27778 | |||||
| 姓名 | Takahashi, Tomokazu | |||||
| 概要 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 携帯機器に搭載できるSOFCの構造として極薄のGd 添加CeO2 (GDC) 膜を自己支持にし、そこに局所加熱のためにマイクロヒータを配した構造を提案し た。これを実現するためにGDC膜の残留応力を成膜中の酸素分圧によって制御する方法を試み、-160 MPaの低応力膜を持た。GDC膜のエッチング耐性を調査し、その結果に基づいて作製プロセスを設計し、提案したマイクロSOFCの基本構造を作製した。作製したGDC自己支持膜のイオン導電率は報告されているバルクGDCの値より低いが400℃以下の低温ではバルクYSZよりも高い値を示しており、GDC自己支持膜を用いてマイクロSOFCの低温化が期待できる。 |
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| 内容記述 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | トピックス | |||||
| 書誌情報 |
理工学と技術 : 関西大学理工学会誌 = Engineering & technology 巻 17, p. 43-46, 発行日 2010-11-10 |
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| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
| 収録物識別子 | 18830021 | |||||
| 書誌レコードID | ||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||
| 収録物識別子 | AA12311681 | |||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||
| 出版者 | ||||||
| 出版者 | 関西大学理工学会 | |||||
