WEKO3
アイテム
Synthesis and Property of Tannic Acid Derivatives and Their Application for Extreme Ultraviolet Laser Lithography System
http://hdl.handle.net/10112/16259
http://hdl.handle.net/10112/1625918cc0dd0-890b-417c-9af7-86ce6dbf24ea
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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KU-1100-20180600-00.pdf (123.6 kB)
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| Item type | 学術雑誌論文 / Journal Article(1) | |||||
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| 公開日 | 2018-08-31 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Synthesis and Property of Tannic Acid Derivatives and Their Application for Extreme Ultraviolet Laser Lithography System | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | eng | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
| 資源タイプ | journal article | |||||
| 著者 |
Kudo, Hiroto
× Kudo, Hiroto× Ohori, Shizuya× Takeda, Hiroya× Ogawa, Hiroki× Watanabe, Takeo× Yamamoto, Hiroki× Kozawa, Takahiro |
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| 著者別名 | ||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||
| 識別子 | 26873 | |||||
| 姓名 | 工藤, 宏人 | |||||
| 著者別名 | ||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||
| 識別子 | 26874 | |||||
| 姓名 | 大堀, 静也 | |||||
| 著者別名 | ||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||
| 識別子 | 26875 | |||||
| 姓名 | 竹田, 紘也 | |||||
| 著者別名 | ||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||
| 識別子 | 26876 | |||||
| 姓名 | 小川, 大貴 | |||||
| 概要 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | We synthesized tannic acid derivatives with pendant cyclohexyl acetal moieties (TA-CVEn), butyl acetal moieties (TA-BVEn), and adamantyl ester moieties (TA-ADn) by the reaction of tannnic acid (TA) with cyclohexyl vinyl ether (CVE), butyl vinyl ether (BVE), and adamantyl bromo acetate (AD) in various feeds ratios. The synthesized TA-CVEn, TA-BVEn, and TA-ADn had good solubility, good film-forming ability, and high thermal stability relevant to application of photolithography materials. However, only TA-BVE97 and TA-AD74 can be used as positive-type photo-resist materials using 2.38 wt% TMAH aq. as developer due to the result of thickness loss property. Furthermore, their resist-sensitivity upon EUV exposure tool and etching durability were adequate and they have high potential as next-generation resist material for EUV lithography. | |||||
| 書誌情報 |
Journal of Photopolymer Science and Technology 巻 31, 号 2, p. 221-225, 発行日 2018-06 |
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| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
| 収録物識別子 | 13496336 | |||||
| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
| 収録物識別子 | 09149244 | |||||
| DOI | ||||||
| 関連タイプ | isVersionOf | |||||
| 識別子タイプ | DOI | |||||
| 関連識別子 | 10.2494/photopolymer.31.221 | |||||
| 権利 | ||||||
| 権利情報 | (C) 2017 The Society of Photopolymer Science and Technology (SPST) | |||||
| 権利 | ||||||
| 権利情報 | (C)フォトポリマー学会; このデータはフォトポリマー学会からの許諾を得て公開しています。 | |||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 出版タイプ | AM | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_ab4af688f83e57aa | |||||
| 出版者 | ||||||
| 出版者 | The Society of Photopolymer Science and Technology | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Tannic acid | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Positive-type resist | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Extreme ultraviolet laser | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | 関西大学 | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Kansai University | |||||
| 出版者（他言語） | ||||||
| 値 | フォトポリマー学会 | |||||
