WEKO3
アイテム
高シリカ型ゼオライト膜の合成と分離プロセスへの応用 [論文要旨及び審査の要旨]
http://hdl.handle.net/10112/16380
http://hdl.handle.net/10112/16380158db0e5-cbda-4da3-bf51-f6b817cd6032
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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| アイテムタイプ | 学位論文 / Thesis or Dissertation(1) | |||||
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| 公開日 | 2018-11-27 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | 高シリカ型ゼオライト膜の合成と分離プロセスへの応用 [論文要旨及び審査の要旨] | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_46ec | |||||
| 資源タイプ | thesis | |||||
| 著者 |
今坂, 怜史
× 今坂, 怜史 |
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| 著者別名 | ||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||
| 識別子 | 1192 | |||||
| 姓名 | Imasaka, Satoshi | |||||
| 書誌情報 | 発行日 2018-09-20 | |||||
| 学位名 | ||||||
| 学位名 | 博士(工学) | |||||
| 学位授与機関 | ||||||
| 学位授与機関名 | 関西大学 | |||||
| 学位授与年月日 | ||||||
| 学位授与年月日 | 2018-09-20 | |||||
| 学位授与番号 | ||||||
| 学位授与番号 | 34416甲第699号 | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | 関西大学 | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Kansai University | |||||