ログイン
言語:

WEKO3

  • トップ
  • ランキング
To
lat lon distance
To

Field does not validate



インデックスリンク

インデックスツリー

メールアドレスを入力してください。

WEKO

One fine body…

WEKO

One fine body…

アイテム

  1. 1100 学部・機構・専門職大学院
  2. 理工系学部
  3. 理工学と技術 : 関西大学理工学会誌
  4. Vol.19

トピックス メタルアシストエッチングを用いた垂直配列シリコンナノワイヤ配列の形成

http://hdl.handle.net/10112/7508
http://hdl.handle.net/10112/7508
d8177f9f-8894-4513-ab60-194d0aa80c86
名前 / ファイル ライセンス アクション
KU-1100-20121116-10.pdf KU-1100-20121116-10.pdf (1.2 MB)
Item type 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2013-02-01
タイトル
タイトル トピックス メタルアシストエッチングを用いた垂直配列シリコンナノワイヤ配列の形成
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
その他のタイトル
その他のタイトル Fabrication of vertically oriented silicon nanowire arrays on silicon substrate using metal assisted etching method
著者 清水, 智弘

× 清水, 智弘

WEKO 27855
e-Rad 80581165

ja 清水, 智弘
ISNI

en Shimizu, Tomohiro

Search repository
著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 27856
姓名 Shimizu, Tomohiro
概要
内容記述タイプ Other
内容記述 半導体ナノワイヤは高効率太陽電池や高感度バイオセンサなど様々な用途が期待されている材料である。特にシリコンナノワイヤはCMOSテクノロジーとの高い親和性から注目を集めている。本稿ではこの金属触媒と溶液を用いたシリコンナノワイヤの自己組織的な形成方法とその形状制御の試みについて説明する。
書誌情報 理工学と技術 : 関西大学理工学会誌 = Engineering & technology

巻 19, p. 55-58, 発行日 2012-11-16
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 18830021
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA12311681
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
出版者
出版者 関西大学理工学会
戻る
0
views
See details
Views

Versions

Ver.1 2023-05-15 14:53:51.944498
Show All versions

Share

Mendeley Twitter Facebook Print Addthis

Cite as

エクスポート

OAI-PMH
  • OAI-PMH JPCOAR 2.0
  • OAI-PMH JPCOAR 1.0
  • OAI-PMH DublinCore
  • OAI-PMH DDI
Other Formats
  • JSON
  • BIBTEX

Confirm


Powered by WEKO3


Powered by WEKO3