WEKO3
アイテム
トピックス メタルアシストエッチングを用いた垂直配列シリコンナノワイヤ配列の形成
http://hdl.handle.net/10112/7508
http://hdl.handle.net/10112/7508d8177f9f-8894-4513-ab60-194d0aa80c86
名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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Item type | 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1) | |||||
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公開日 | 2013-02-01 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | トピックス メタルアシストエッチングを用いた垂直配列シリコンナノワイヤ配列の形成 | |||||
言語 | ||||||
言語 | jpn | |||||
資源タイプ | ||||||
資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||
その他のタイトル | ||||||
その他のタイトル | Fabrication of vertically oriented silicon nanowire arrays on silicon substrate using metal assisted etching method | |||||
著者 |
清水, 智弘
× 清水, 智弘 |
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著者別名 | ||||||
識別子Scheme | WEKO | |||||
識別子 | 27856 | |||||
姓名 | Shimizu, Tomohiro | |||||
概要 | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | 半導体ナノワイヤは高効率太陽電池や高感度バイオセンサなど様々な用途が期待されている材料である。特にシリコンナノワイヤはCMOSテクノロジーとの高い親和性から注目を集めている。本稿ではこの金属触媒と溶液を用いたシリコンナノワイヤの自己組織的な形成方法とその形状制御の試みについて説明する。 | |||||
書誌情報 |
理工学と技術 : 関西大学理工学会誌 = Engineering & technology 巻 19, p. 55-58, 発行日 2012-11-16 |
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ISSN | ||||||
収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
収録物識別子 | 18830021 | |||||
書誌レコードID | ||||||
収録物識別子タイプ | NCID | |||||
収録物識別子 | AA12311681 | |||||
著者版フラグ | ||||||
出版タイプ | VoR | |||||
出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||
出版者 | ||||||
出版者 | 関西大学理工学会 |