@article{oai:kansai-u.repo.nii.ac.jp:00011605,
 author = {大本, 将義 and 奥野, 昌二 and 荒川, 隆一},
 issue = {6},
 journal = {分析化学},
 month = {Jun},
 note = {マトリックス支援レーザー脱離イオン化質量分析(MALDI-MS)法とポストソース分解(PSD)法により,600から4000の異なる分子量分布の界面活性剤ノニルフェノールポリエトキシレートの構造解析を行った.MALDIスペクトルからノニルフェノールポリエトキシレートは,(-CH_2CH_2O-)の繰り返し単位を持つイオン群として検出された.また,不純物として少量存在するオクテルとデシルフェノールポリエトキシレートを検出した.MALDIから得られた数平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィーの値とほぼ同じであった.アルカリ金属イオンのカチオン化剤の影響を調べた結果,MALDI測定にはNa^+付加がよく,PSD測定ではLi^+付加イオンが最も感度よくフラグメントイオンを生成することが分かった.PSDの測定結果は,ノニルフェノール末端部位にC_6H_<13->のアルキル鎖を有することを支持している.　Nonylphenolpolyethoxylate polymers with　different molecular weights were characterized by matrix assisted laser desorption/ionization mass spectrometry (MALDI-MS) and post source decay (PSD) experiments. The MALDI mass spectra　indicated that the polymers have a repeated unit of (CH_2CH_2O) in the structure and contain small amounts of octyl- and decyl-phe-nolpolyethoxylate contaminants. The　average molecular weights of the polymers obtained from the mass spectra were　consistent with those of GPC measurements. Li^+ among alkali metal ions was found to be the best cationizing agent in PSD　experiments. The PSD spectra suggested that the alkylphenol moiety in the end group of nonylphenolpolyethoxylate polymers contains alkyl structure of C_6H_<13-> group.},
 pages = {555--560},
 title = {マトリックス支援レーザー脱離イオン化質量分析法におけるポストソース分解法によるノニルフェノールポリエトキシレートの構造解析},
 volume = {53},
 year = {2004}
}