WEKO3
アイテム
Synthesis and Resist Properties of Calixarene Polymers with Pendant Haloalkyl Groups
http://hdl.handle.net/10112/11221
http://hdl.handle.net/10112/11221e9df2ef7-6606-428a-868d-5832dae1faec
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
|---|---|---|
KU-1100-20160000-00.pdf (1.3 MB)
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| Item type | 学術雑誌論文 / Journal Article(1) | |||||
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| 公開日 | 2017-06-12 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Synthesis and Resist Properties of Calixarene Polymers with Pendant Haloalkyl Groups | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | eng | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
| 資源タイプ | journal article | |||||
| 著者 |
Kudo, Hiroto
× Kudo, Hiroto× Ogawa, Hiroki× Yamamoto, Hiroki× Kozawa, Takahiro |
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| 著者別名 | ||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||
| 識別子 | 26858 | |||||
| 姓名 | 工藤, 宏人 | |||||
| 概要 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | We examined the condensation polymerization of <i>t</i>-butylcalix[8]arene (BCA[8]), <i>p</i>-<i>t</i>-butylcalix[4]arene (BCA[4]), and C-(4-<i>t</i>-butylbenz)calix[4]resorcinarene (BCRA[4]) with 1,3-adamantane dibromoacetate (ADB), yielding soluble polymers poly(BCA[8]-<i>co</i>-ADB), poly(BCA[4]-<i>co</i>-ADB), and poly(BCRA[4]-<i>co</i>-ADB), respectively. These polymers had good solubility, good film forming ability, and good thermal stability. It was anticipated that these polymers were applicable to positive-type resist materials. However, by the examination on the resist sensitivity using EUV exposure system, these polymers were applicable to negative type resist materials using THF as a developer. Furthermore, a negative clear resist pattern with 100nm resolution could be obtained by EB exposure system. These results indicated that poly(BCA[8]-<i>co</i>-ADB) and poly(BCRA[4]-<i>co</i>-ADB) have high potential to offer higher resolution negative pattern using EUV lithography system. | |||||
| 書誌情報 |
Journal of Photopolymer Science and Technology 巻 29, 号 3, p. 495-500, 発行日 2016 |
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| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
| 収録物識別子 | 09149244 | |||||
| 書誌レコードID | ||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||
| 収録物識別子 | AA11576862 | |||||
| DOI | ||||||
| 関連タイプ | isIdenticalTo | |||||
| 識別子タイプ | DOI | |||||
| 関連識別子 | 10.2494/photopolymer.29.495 | |||||
| 権利 | ||||||
| 権利情報 | (C) 2016 SPST | |||||
| 権利 | ||||||
| 権利情報 | 本文はフォトポリマー学会の許諾を得て作成しています。 | |||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||
| 出版者 | ||||||
| 出版者 | The Society of Photopolymer Science and Technology | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | calixarene | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | botryosin | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | electron beam | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | extreme ultraviolet | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | resist | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | 関西大学 | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Kansai University | |||||
| 出版者（他言語） | ||||||
| 値 | フォトポリマー学会 | |||||
