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  1. 1100 学部・機構・専門職大学院
  2. 理工系学部
  3. 化学生命工学部
  4. 雑誌発表論文等

Effect of Surface Deposits on Nitriding Layer Formation of Active Screen Plasma Nitriding

http://hdl.handle.net/10112/16945
http://hdl.handle.net/10112/16945
a5e6f8be-5904-409f-900d-9f14bd035857
名前 / ファイル ライセンス アクション
KU-1100-20191000-00.pdf KU-1100-20191000-00.pdf (7.6 MB)
Item type 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2019-05-08
タイトル
タイトル Effect of Surface Deposits on Nitriding Layer Formation of Active Screen Plasma Nitriding
言語
言語 eng
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ journal article
著者 Nishimoto, Akio

× Nishimoto, Akio

WEKO 27142
e-Rad 70330173

Nishimoto, Akio

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Fukube, Takahiro

× Fukube, Takahiro

WEKO 27143

Fukube, Takahiro

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Tanaka, Toshiya

× Tanaka, Toshiya

WEKO 27144

Tanaka, Toshiya

Search repository
著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 27146
姓名 西本, 明生
著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 27147
姓名 福部, 貴大
著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 27148
姓名 田中, 寿弥
概要
内容記述タイプ Other
内容記述 Austenitic stainless steel SUS 316L was nitrided by active-screen plasma nitriding (ASPN) to investigate the effect of surface deposits from the screen on the nitriding layer formation. ASPN experiments were carried out using a DC plasma-nitriding unit. The sample was placed on the sample stage in a floating potential (bias-off) and a cathodic potential (bias-on). The screen, which was SUS 316L expanded metal with 38% open area ratio, was mounted on the cathodic stage around the sample stage. Nitriding was performed in a nitrogen-hydrogen atmosphere with 25% N2 + 75% H2 for 18–180 ks at 673 K under 200 Pa by the ASPN process. After nitriding, the nitrided samples were examined using scanning electron microscopy, X-ray diffraction, Vickers microhardness and glow discharge optical emission spectroscopy. From the surface observation of the nitrided sample, deposits were observed on the top surface of the sample nitrided with bias-off whereas deposits were not on that nitrided with bias-on. The nitrogen-expanded austenite (S phase) was formed on the surface of both samples. Layer thickness of the S phase increased with increasing the nitriding time. Additionally, the degree of an increase of the layer thickness of the S phase nitrided with bias-on was approximately 2.5 times greater than that nitrided with bias-off. This result suggests that the ASPN treatment with bias-on is effective for the increase of the nitriding layer thickness.
書誌情報 Materials Transactions

巻 57, 号 10, p. 1811-1815, 発行日 2016-10
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 13459678
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA1151294X
DOI
関連タイプ isIdenticalTo
識別子タイプ DOI
関連識別子 10.2320/matertrans.M2016209
権利
権利情報 (C) 2016 The Japan Institute of Metals and Materials
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
出版者
出版者 The Japan Institute of Metals and Materials
キーワード
主題Scheme Other
主題 active screen plasma nitriding
キーワード
主題Scheme Other
主題 nitriding layer
キーワード
主題Scheme Other
主題 austenitic stainless steel
キーワード
主題Scheme Other
主題 expanded austenite
キーワード
主題Scheme Other
主題 bias
キーワード
主題Scheme Other
主題 surface deposits
キーワード
主題Scheme Other
主題 Kansai University
キーワード
主題Scheme Other
主題 関西大学
出版者(他言語)
値 日本金属学会
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Ver.1 2023-05-15 13:34:55.172006
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Nishimoto, Akio, Fukube, Takahiro, Tanaka, Toshiya, 2016, Effect of Surface Deposits on Nitriding Layer Formation of Active Screen Plasma Nitriding: The Japan Institute of Metals and Materials, 1811–1815 p.

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